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ナノインプリント用モールド  カスタム

豊富な実績と蓄積した技術・ノウハウでお客さまの独自仕様にご対応

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さまざまな分野への応用が加速しているナノインプリント技術。研究・開発・応用・製品化のさまざまはステップで必要となるナノインプリント用モールドをご提供します。

弊社は半導体微細加工技術の応用として、20年以上前からナノインプリント用モールドをご提供してまいりました。この間多くのお客様からのご指導いただき、1000点以上のモールドをご提供してきた豊富な実績があります。
大学・研究機関・企業、また半導体・光・IT・バイオ・メディカル等の広い分野のお客様からご用命を賜わっております。

ナノインプリント用モールド微細加工技術・製造ノウハウ

■モールド材料

石英・シリコン・SiC・Niなど、お客様のナノインプリントに応じた材料をご指定いただけます。

■極微細

最小20nmのパターンからμmオーダまで。高いアスペクト比も可能です。

■パターン

単一パターンの繰返配列から、回路パターン等の複雑なパターンまでご対応します。

■多段差パターン

ホログラムなどに用いるマルチレベル段差パターンもご提供しています。

■三次元形状

微小なマイクロレンズアレイ(MLA)や反射防止体(モスアイ構造)、逆四角錘パターンをはじめさまざまな形状を加工します。

■高い形状精度

加工形状についても切れの良いエッジとご評価いただいています。側壁制御によるテーパ、逆テーパ形状の微細構造もご対応いたします。ご相談ください。

ナノインプリント用モールド製作依頼の流れ

まずはご相談ください

カスタムモールドでは事前のお打合せがとても重要です。まずはお客様のご希望やイメージをご連絡ください。細かいご相談やご質問にも丁寧におこたえいたします。
 

カスタムモールドご注文の流れ

カスタムモールド 微細パターン加工例

NTT-ATの様々な形状、寸法のナノインプリントモールドの微細加工の一例です。ご希望のパターン、基板の種類等についてお気軽にご相談ください。

極微細パタン 高アスペクト比パタン

ナノインプリント用モールドセミカスタム極微細パターン
36nmピッチドット

高アスペクト比パタン
アスペクト比10

  • 基板: 石英、シリコン、SiO2/Si、 Ni、SiC
  • 最小パタンピッチ: 35nm程度(基板とパタンにより最小ピッチは異なります。)
  • 深さ: 20nmから
  • パタン: L&S、ドット、ホール、リング
  • 基板: シリコン
  • パタンピッチ: 50nmから
  • 深さ: 100nmから
  • パタン: ライン、L&S
マルチレベルパタン V溝型、ブレーズ型パタン

マルチレベルパタン

8レベルパタン

V溝型、ブレーズ型パタン

1μmピッチV溝

  • 基板: 石英、シリコン、SiO2/Si、Ni電鋳
  • 最小パタン: 250nmから
  • レベル数: 最大8レベル
  • レベル深さ: 50nmから
  • トータル深さ: 20μmまで
  • 基板:シリコン
  • パタンピッチ: 100nmから
  • 深さ: 50nmから
円錐状パタン(Moth-eye構造) 球面パタン(マイクロレンズ)

円錐状パタン(Moth-eye構造)

8レベルパタン

球面パタン(マイクロレンズ)

1μm、ザグ0.3μm

  • 基板: 石英、Ni電鋳
  • パタンピッチ: 200nmから
  • 深さ: 100から1000nm
  • 配列: 正方配列、三角配列、ランダム配列
  • 基板: 石英、シリコン、SiO2/Si、Ni電鋳
  • パタンピッチ:1から250nm
  • 形状:球面
  • 配列:正方配列、三角配列、ランダム配列
四角錐パタン 深堀パタン

四角錐パタン

四角錐パタンアレイ

深堀パタン

高さ40μm円柱パタン

  • 基板: シリコン
  • パタンピッチ: 500nmから
  • 深さ: 300nmから
  • 基板: 石英
  • 深さ: 100μmまで

 

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